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FPS 6100多功能掩膜版光刻機(jī)

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FPS6100傳遞的畫面質(zhì)量和生產(chǎn)效率有所提高，符合當(dāng)下更為先進(jìn)的多功能市場細(xì)分的要求。

許多應(yīng)用和生產(chǎn)環(huán)境可以設(shè)置FPS6100：電子包裝、觸摸屏、濾色鏡、精細(xì)的金屬膜片、3D模具等等。這意味著你可以充分利用現(xiàn)行產(chǎn)品體系，同時(shí)瞄準(zhǔn)新的商機(jī)。

與之前的FPS5500相比，F(xiàn)PS6100能夠提供更高的曝光速度以及更優(yōu)質(zhì)的畫面質(zhì)量。如果您的FPS系統(tǒng)是老一代的，您可以將它升級至FPS6100系列，不僅節(jié)省成本同時(shí)提高經(jīng)營的能力和質(zhì)量。

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產(chǎn)品詳情

使多功能光掩模制造

具有無與倫比的靈活性

FPS6100傳遞的畫面質(zhì)量和生產(chǎn)效率有所提高，符合當(dāng)下更為先進(jìn)的多功能市場細(xì)分的要求。

與之前的FPS5500相比，F(xiàn)PS6100能夠提供更高的曝光速度以及更優(yōu)質(zhì)的畫面質(zhì)量。如果您的FPS系統(tǒng)是老一代的，您可以將它升級至FPS6100系列，不僅節(jié)省成本同時(shí)提高經(jīng)營的能力和質(zhì)量。

主要優(yōu)勢：

生產(chǎn)效率提高，曝光速度更快，減少輔助操作時(shí)間
畫面質(zhì)量更優(yōu)質(zhì)，更小的成像單位
6種曝光水平和干板曝光的平臺可擴(kuò)展性
FPS5100/5300/5500可升級

技術(shù)指標(biāo)

FPS6100	Lvl 80	Lvl 60	Lvl 40
曝光速度[mm²/min]	525	1250	2600
最小L/S 溶解（pitch/2）	0.75	1.2	2.0
CD均勻性3σ [nm]	30	40	60
套合3σ[nm]	70	85	100
最大掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	6000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	3.5	5.0	7.0
CD均勻性3σ [nm]	80	100	200
套合3σ[nm]	120	140	160
最大掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100E	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	5000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	6.0	8.0	12.0
CD均勻性3σ [nm]	600	700	900
套合3σ[nm]	120	140	160
最大掩膜尺寸 [mm]	813x813*

* 掩膜可伸展尺寸到達(dá)可選擇的1100×1100 和 900×1200

技術(shù)指標(biāo)

FPS6100	Lvl 80	Lvl 60	Lvl 40
曝光速度[mm²/min]	525	1250	2600
最小L/S 溶解（pitch/2）	0.75	1.2	2.0
CD均勻性3σ [nm]	30	40	60
套合3σ[nm]	70	85	100
最大掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	6000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	3.5	5.0	7.0
CD均勻性3σ [nm]	80	100	200
套合3σ[nm]	120	140	160
最大掩膜尺寸 [mm]	813x813*

FPS6100E	Lvl 25	Lvl 20	Lvl 15
曝光速度[mm²/min]	5000	8000	12000
最小L/S 溶解（pitch/2）	6.0	8.0	12.0
CD均勻性3σ [nm]	600	700	900
套合3σ[nm]	120	140	160
最大掩膜尺寸 [mm]	813x813*

* 掩膜可伸展尺寸到達(dá)可選擇的1100×1100 和 900×1200

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