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EBPG5150 電子束光刻機

詳細介紹

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺設(shè)計，對電子束直寫應(yīng)用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。 
 

高束流密度，熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換155mm的平臺。最小曝光特征尺寸小于8nm，高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器。在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫場大小，最大可以到1mm。GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環(huán)境多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應(yīng)用的需求。

可選的系統(tǒng)增強升級

EBPG5150可以選擇不同的升級選項，以滿足用戶不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進、高自動化的電子束光刻系統(tǒng)。

EBPG5150 應(yīng)用

·  電子束曝光用于制作GaAs T型器件

·  微盤諧振器

·  開口環(huán)諧振器

EBPG5150 產(chǎn)品詳情

主要應(yīng)用：

· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結(jié)構(gòu)

· 高速電子束直寫

· 批量生產(chǎn)，如化合物半導(dǎo)體器件

· 防偽標(biāo)識

電子光學(xué)柱技術(shù)：

· EBPG

· 電子束

· 100 kV

樣品臺：

· 覆蓋完整6英寸硅片大小

· 標(biāo)配2工位自動化上料(10工位可選)