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EM-09100IS 離子切片儀
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日本電子JEOL 離子切片儀 EM-09100IS
用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER樣品制備的創(chuàng)新方法 離子切片儀制備薄膜樣品比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也極好，對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
· 產(chǎn)品規(guī)格
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EM-09100IS |
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離子加速電壓 |
1 ～ 8kV |
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傾斜角 |
Up to 6°(0.1°/步) |
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離子束直徑 |
500μm(FWHM) |
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Milling rate |
5m/min (加速電壓:8 kV, Si換算) |
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使用氣體 |
氬氣 |
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最大樣品尺寸 |
2.8mm(長(zhǎng)度)×0.5 mm(寬度)×0.1mm(厚度) |
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壓力測(cè)試 |
潘寧規(guī) |
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主抽真空系統(tǒng) |
渦輪分子泵 |
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CCD相機(jī) |
內(nèi)置 |
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尺寸 重量 |
主機(jī) |
500mm(W)×600mm(D)×542mm(H)、63kg |
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機(jī)械泵 |
150mm(W)×427mm(D)×230.5mm(H)、16kg |
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液晶顯示器 |
326mm(W)×173mm(D)×380mm(H)、3.7kg |
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· 安裝條件
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EM-09100IS |
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電源 |
單相, AC100 ～ 120V, 50/60Hz, 500 ～ 600VA |
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接地線 |
獨(dú)立地線(100Ω以下) |
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氬氣 |
使用壓力: 0.15±0.05MPa(1.0 ～ 2.0kg/cm2) |
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室溫 |
20 ～ 25℃(fluctuation: 1°C/hor less變動(dòng)少于1°C/h) |
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濕度 |
60% 以下 |
· *請(qǐng)?zhí)峁┌卜旁O(shè)備的桌子。
· *產(chǎn)品外觀及技術(shù)規(guī)格可能未經(jīng)預(yù)告而有所變更。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
· 用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER樣品制備的創(chuàng)新方法
· 離子切片儀制備薄膜樣品除了需要將樣品切成矩形薄片外，不需要溶劑或化學(xué)試劑及前處理（打磨或凹坑研磨），比傳統(tǒng)制備工具快速、簡(jiǎn)單。低能量、低角度（0°到6°）的氬離子束通過遮光帶照射樣品，大大降低了離子束對(duì)樣品的輻照損壞。即使是柔軟的材料,制備的薄膜質(zhì)量也極好，對(duì)不同成份的樣品甚至含有多孔合成物也都能夠有效制備。
· 主要特點(diǎn):
· 高質(zhì)量的透射電鏡樣品的前處理
· 快速制備
· 無需復(fù)雜的前處理
· 最小限度的表面損傷
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