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德國(guó)Raith EBPG PLUS電子束光刻機(jī)

精密、通量與自動(dòng)化方面具有額外優(yōu)勢(shì)的光刻技術(shù)。

新的EBPG系列系統(tǒng)是多年系統(tǒng)發(fā)展的最新進(jìn)展。EBPG Plus系統(tǒng)在工業(yè)化合物半導(dǎo)體制造中已得到廣泛應(yīng)用，并且是世界頂尖大學(xué)和納米技術(shù)研究卓越中心的系統(tǒng)首選。

通過(guò)協(xié)調(diào)吞吐量、穩(wěn)定性、保真度和精度，EBPG Plus確保所有性能參數(shù)之間完美交互，以提供最佳的納米光刻結(jié)果。

高效的數(shù)據(jù)處理以及對(duì)曝光序列適應(yīng)設(shè)計(jì)幾何特性的多種選項(xiàng)，使得納米結(jié)構(gòu)具有最高的圖案保真度。

硬件和軟件設(shè)計(jì)旨在支持最具挑戰(zhàn)性的應(yīng)用，同時(shí)支持在真正的多用戶環(huán)境下穩(wěn)定且便捷的系統(tǒng)操作。