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Syskey  化學(xué)氣相沉積  CVD Cluster

PECVD和PEALD系統(tǒng)可以組合在一起，實(shí)現(xiàn)薄膜的多層沉積封裝。單室僅用于某些薄膜沉淀。樣品在兩者之間轉(zhuǎn)移自動(dòng)處理腔室。

配置和優(yōu)勢(shì)：

• 靈活的基板尺寸可達(dá) 12 英寸
• 基板支架加熱至 400 °C
• 優(yōu) 異的薄膜均勻性，小于 ±2%/±5%
• 每個(gè)工藝室有 6 條前驅(qū)體管線和可選的反應(yīng)氣體管線
• 冷卻或加熱前驅(qū)體罐
• 用選定的目標(biāo)材料沉積多層薄膜
• 可與其他拆卸系統(tǒng)集成