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美Nano-master兆聲晶圓清洗機(jī)SWC-4000

產(chǎn)品特點(diǎn)：

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及Z先進(jìn)的兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了專利的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)應(yīng)用：

。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
。Ge, GaAs以及InP晶圓片清洗
。CMP處理后的晶圓片清洗
。晶圓框架上的切粒芯片清洗
。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
。帶保護(hù)膜的分劃版清洗
。掩模版空白部位或接觸部位清洗
。X射線及極紫外掩模版清洗
。光學(xué)鏡頭清洗
。ITO涂覆的顯示面板清洗
。兆聲輔助的剝離工藝

特點(diǎn)：

。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
。獨(dú)立系統(tǒng)
。無損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
。微處理機(jī)自動(dòng)控制
?；瘜W(xué)試劑滴膠單元
。溶劑與酸分離排廢
。熱氮
。30"D x 26"W 的占地面積

選配項(xiàng)：

。掩模板或晶圓片夾具
。臭氧清洗
。PVA軟毛刷清洗
。高壓DI清洗
。氮?dú)怆x子發(fā)生器

無損兆聲及清洗技術(shù) 

。 兆聲和清洗技術(shù)的最新發(fā)展，給MEMS和半導(dǎo)體行業(yè)提供了最新水平的晶圓片和掩模版清洗，可以幫助用戶獲得最干凈的清洗效果。

。 NANO-MASTER提供的兩大系列清洗系統(tǒng)，包含：兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，和大基片清洗(LSC)系統(tǒng)，均為最先進(jìn)的無損兆聲清洗，可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，及帶保護(hù)膜的掩模版。NANO-MASTER的專利技術(shù)確保了兆聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

。 SWC和LSC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑分布能力，使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)并可最大程度節(jié)省試劑。系統(tǒng)可編程支持試劑混合，并對(duì)整個(gè)基片提供可控的試劑分布。

。 試劑和NANO-MASTER兆聲清洗技術(shù)的結(jié)合，顆粒被釋放的能力得以提升，被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數(shù)量降到了最低。如無幅流DI水，最先進(jìn)的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽也會(huì)有更大數(shù)量的顆?；馗剑瑥亩枰嗟臅r(shí)間去除這些顆粒。

。 此外，NANO-MASTER這兩大系列的清洗機(jī)都還提供了一系列的選配功能:

1） PVA軟刷提供了機(jī)械的方式去除無圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠

2） DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物去除，而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。

3）我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級(jí)的顆粒去除。 根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配項(xiàng)將會(huì)進(jìn)一步提高設(shè)備去除顆粒和殘留物的能力。

4) SWC和LSC系統(tǒng)均能夠原位實(shí)現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干。“干進(jìn)干出” 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以最低的投資和購(gòu)置成本來實(shí)現(xiàn)。NANO-MASTER清洗機(jī)的工藝處理時(shí)間可以在3-5分鐘內(nèi)完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。

5) NANO-MASTER的技術(shù)也適用于清洗背面以及帶保護(hù)膜掩模版正面的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護(hù)膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準(zhǔn)備表面以便再次覆膜。此外，帶保護(hù)膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對(duì)薄膜無滲漏。

6) SWC是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。LSC的結(jié)構(gòu)提供了最當(dāng)前及下一代晶圓片和掩模版的最先進(jìn)的能力。這兩系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。