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JEM-3200FS場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡
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日本JEOL 場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡JEM-3200FS
JEM-3200FS場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡配備了最高加速電壓為300kV的場(chǎng)發(fā)射電子槍(FEG)和鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過濾器,能為廣泛的研究領(lǐng)域提供各種全新的解決方案。
產(chǎn)品規(guī)格:
物鏡極靴*1 |
超高分辨UHR |
高分辨率HR |
高傾斜HT |
高襯度HC |
分辨率 |
||||
點(diǎn)分辨率 |
0.17nm |
0.19nm |
0.21nm |
0.26nm |
能量分辨率 |
0.9 eV(零損失FWHM) |
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加速電壓 |
300kV,200kV,100kV*2 |
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最小步長(zhǎng) |
100V |
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電子槍 |
||||
發(fā)射體 |
ZrO/W(100) 肖特基式 |
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亮度 |
≧7×108 A/cm2 ? sr |
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真空度 |
3×10-8Pa |
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探針電流 |
探針直徑為1nm時(shí),電流在0.5nA以上 |
|||
穩(wěn)定度 |
||||
加速電壓 |
2×10-6/min |
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物鏡電流 |
1×10-6/min |
|||
過濾器透鏡電流 |
1×10-6/min |
|||
物鏡 |
||||
焦距 |
2.7 mm |
3.0 mm |
3.5 mm |
3.9 mm |
球差系數(shù) |
0.6 mm |
1.1 mm |
1.4 mm |
3.2 mm |
色差系數(shù) |
1.5 mm |
1.8 mm |
2.2 mm |
3.0 mm |
最小焦距步長(zhǎng) |
1.0 nm |
1.4 nm |
1.5 nm |
4.1 nm |
束斑尺寸 |
||||
TEM 模式 |
2 ~ 5 nmφ |
2 ~ 5 nmφ |
7 ~ 30 nmφ |
|
EDS 模式 |
0.4 ~ 1.6 nmφ |
0.5 ~ 2.4 nmφ |
4 ~ 20 nmφ |
|
NBD 模式 |
0.4 ~ 1.6 nmφ |
0.5 ~ 2.4 nmφ |
- |
|
CBD 模式 |
0.4 ~ 1.6 nmφ |
0.5 ~ 2.4 nmφ |
- |
|
電子束衍射 |
||||
衍射角(2α) |
1.5 t~ 20 mrad |
- |
||
取出角 |
±10 ° |
- |
||
倍率 |
||||
MAG 模式 |
×2,500 ~ 1,500,000 |
×2,000 ~ 1,200,000 |
×1,500 ~ 1,200,000 |
|
LOW MAG 模式 |
×100 ~ 3,000 |
|||
SA MAG 模式 |
×8,000 ~ 600,000 |
×6,000 ~ 500,000 |
×5,000 ~ 500,000 |
|
視野 |
10eV時(shí)狹縫寬度60mm(底片上) |
|||
相機(jī)長(zhǎng)度 |
||||
選區(qū)電子衍射 |
200 ~ 2,000 mm |
250 ~ 2,500 mm |
400 ~ 3,000 mm |
|
EELS 散射 |
||||
能量選擇 |
0.85 μm/eV , 300 kV |
|||
底片上 |
100 ~ 220 μm/eV , 300kV |
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樣品室 |
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樣品移動(dòng)范圍 (XY/Z) |
2mm/0.2mm |
2mm/0.4mm |
2mm/0.4mm |
2mm/0.4mm |
樣品傾斜角 (X/Y) |
±25°/±25°*3 |
±35°/±30°*3 |
±42°/±30°*3 |
±38°/±30°*3 |
EDS*4 |
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固體角 |
0.13 sr |
0.09 sr |
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取出角 |
25° |
20° |
產(chǎn)品特點(diǎn):
· JEM-3200FS場(chǎng)發(fā)射電子顯微鏡配備了最高加速電壓為300kV的場(chǎng)發(fā)射電子槍(FEG)和鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過濾器,能為廣泛的研究領(lǐng)域提供各種全新的解決方案。
· 鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過濾器(omega 過濾器)
· 鏡筒內(nèi)置式Ω型能量過濾器內(nèi)置于成像透鏡系統(tǒng),能容易地獲得能量過濾像和能量損失譜,同時(shí)還能獲得與傳統(tǒng)電子顯微鏡同等的放大倍率范圍。此外、Ω型過濾器的電子光學(xué)系統(tǒng)在設(shè)計(jì)上最大程度地減少了圖像畸變,出廠前還將剩余一點(diǎn)的畸變做了最后的修正。JEM-3200FS還采用了高靈敏度的相機(jī)系統(tǒng)及圖像處理系統(tǒng)(選配件),可以構(gòu)建元素面分布系統(tǒng)及能量損失譜系統(tǒng)。
· 新型控制系統(tǒng)
· 電子槍、電子光學(xué)系統(tǒng)、測(cè)角臺(tái)、抽真空系統(tǒng)等電子顯微鏡基本功能的系統(tǒng)化,實(shí)現(xiàn)了高穩(wěn)定、高性能的控制系統(tǒng)。圖像畫面和用戶界面 采用Windows ®*1,可以進(jìn)行編程操作和附件的集中控制。
· 新型測(cè)角臺(tái)
· 系統(tǒng)化的新型測(cè)角臺(tái)內(nèi)置壓電陶瓷驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),使高倍率下的樣品移動(dòng)更加精確。*2.
· *1 : 注意事項(xiàng):Windows是微軟公司在美國和其他國家的注冊(cè)商標(biāo)。
*2 : 僅有壓電元件包括在基本單元中,壓電元件的電源為選配件。
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