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奧地利EVG紫外納米壓印EVG620

一、設(shè)備原理：

EVG620紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。EVG620自動納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。用于納米技術(shù)應(yīng)用的配置包括印章機(jī)械釋放、程序控制高或低的接觸壓力。EVG獨(dú)有的吸盤設(shè)計支持軟印章和硬印章壓印，可以保證大面積納米壓印的均勻壓力，從而保證獲得很高的良率。

二、應(yīng)用范圍

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應(yīng)；光子帶隙；光學(xué)及通訊：光晶體，激光器件；生物技術(shù)解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細(xì)胞生長。

三、主要特點(diǎn)及技術(shù)參數(shù)：

1、主要特點(diǎn)：

。 適用于紫外納米壓印和微接觸印刷；

。 紫外光曝光；

。 配備專用的紫外納米壓印工具；

。 適于軟或硬印章壓印；

。 適用襯底：Si，玻璃，化合物半導(dǎo)體；

2、技術(shù)參數(shù)

• 襯底尺寸：

10 mm x 10 mm，2"，3"，100mm，150mm；厚度：0.1 - 10mm

• 印章參數(shù)：

25 mm x 25 mm，最大 150 mm；厚度： <7mm

• 系統(tǒng)配置：

標(biāo)準(zhǔn)桌面系統(tǒng)，可選系統(tǒng)導(dǎo)軌，被動式振動隔離

• 對準(zhǔn)精度：

上部對準(zhǔn)：± 1.0µm 3σ；通過使用專用的摩爾紋對準(zhǔn)鍵，可實(shí)現(xiàn)± 100nm。大間隙對準(zhǔn)可選：± 1.5µm 3σ

• 對準(zhǔn)臺：

精密微米計：手動，電動可選； 契型補(bǔ)償：內(nèi)部0.5-40N接觸壓力

• 曝光：

模式：軟或真空接觸；分辨率：< 50 nm, 主要與印章的關(guān)鍵尺寸有關(guān)；

波長：200 - 240 nm / 240 - 280 nm / 280 - 350 nm / 350 - 450 nm, 濾鏡可選；

汞弧燈：350 / 500 / 1000 W。

• 自動對準(zhǔn)：可選；
• 處理系統(tǒng)：3料盒臺，5料盒臺（可選），現(xiàn)場可升級
•  SECS/GEM II: 可選。