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日本Ulvac干法等離子刻蝕裝置NE-550Z

裝置外觀·功能

NE-550Z是高真空l(shuí)oad-lock式干法等離子刻蝕裝置，適用于半導(dǎo)體材料、金屬材料等的精細(xì)刻蝕

裝置發(fā)展歷史-安定性好

NE裝置發(fā)展簡(jiǎn)史.裝置運(yùn)行歷史長(zhǎng)，安全穩(wěn)定性值得信賴.

NE-550系統(tǒng)特徵一覽

裝置優(yōu)勢(shì)性能-1-省空間

占地面積：占地面積小，含操作維護(hù)空間3700x700mm

裝置優(yōu)勢(shì)性能-2-C室可減配/適應(yīng)不同需求

搬運(yùn)方式：裝置集成化設(shè)計(jì)，搬運(yùn)省時(shí)便捷

裝置優(yōu)勢(shì)性能-3-ISM等離子體性能

裝置優(yōu)勢(shì)性能-4-壓片方式 (ESC)

Substrate Chuck System and Shield(ESC)

?基板與電極接觸更好

?基板冷卻更均勻

?基板工藝面全覆蓋

?簡(jiǎn)化流程效率更高

?耗材少故障率低

裝置優(yōu)勢(shì)性能-4-壓片方式(機(jī)械式)

Substrate Chuck System and Shield (Mechanical chuck)

適用于Φ230mm 托盤(pán)

裝置優(yōu)勢(shì)性能-5-等離子體覆蓋面積廣

Star 電極可以擴(kuò)大放電范圍，在 干法cleaning時(shí)，增加清洗范圍， 增強(qiáng)清潔效果。

裝置優(yōu)勢(shì)性能-6-基板尺寸兼容好

基板兼容性：可通過(guò)更換ESC電極，兼容各尺寸基板

裝置優(yōu)勢(shì)性能-7-操作方便

操作：ULVAC onboard! PLC control+PC interface.

裝置優(yōu)勢(shì)性能-8-對(duì)話界面簡(jiǎn)潔

對(duì)話界面：english通用版、簡(jiǎn)潔易識(shí)別。

裝置所有機(jī)構(gòu)界面上都有顯示，也可以操格。

裝置優(yōu)勢(shì)性能-9-工藝菜單編輯簡(jiǎn)單

工藝萊單編輯界面：english版，操作簡(jiǎn)單易識(shí)別。

裝置優(yōu)勢(shì)性能-10-log 功能

數(shù)據(jù)Log:PC保存，可以導(dǎo)出Excel格式，便于分析

裝置優(yōu)勢(shì)性能-11-綜合性能對(duì)比

Dry Etch System for Institute and other small batch production equipment

裝置施設(shè)參數(shù)

設(shè)施要求：點(diǎn)擊查看詳細(xì)

裝置生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)-無(wú)塵車間

生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)：裝置在無(wú)塵車間中生產(chǎn)，保證真空設(shè)備高品質(zhì)。