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NIL 300 mm 紫外納米壓印系統(tǒng)
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SmartNIL紫外納米壓印:HERCULES NIL
一、設(shè)備原理:
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個完全集成的納米壓印系統(tǒng),是EVG的NIL產(chǎn)品組合的最新成員。 HERCULES NIL基于模塊化平臺,在單個平臺上將清洗模塊,抗蝕劑涂層模塊和烘烤預處理模塊與EVG的專有SmartNIL大面積納米壓?。∟IL)模塊結(jié)合在一起,用于直徑最大為300 mm的晶片。
這是第一個基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺和可交換模塊的NIL系統(tǒng),可為客戶提供最大的自由度來配置他們的系統(tǒng),以最好地滿足其生產(chǎn)需求,包括200 mm和300 mm晶圓的互換功能。通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在大面積NIL設(shè)備解決方案中的領(lǐng)導地位。
二、應用范圍
HERCULES NIL納米壓印技術(shù)主要應用于如下方面:
三、主要特點及技術(shù)參數(shù)
1、主要特點:
. 最大產(chǎn)量高達40wafers每小時;
.“一站式服務(wù)”:將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。
. 市場上最先進的納米壓印功能,
. 具有較低的力和保形壓印,
. 快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。
. 支持各種設(shè)備和應用程序的生產(chǎn),全自動UV-NIL壓印和微力剝離
. 完全模塊化的平臺,具有多達八個可交換過程模塊(壓印和預處理)
. 200毫米/ 300毫米橋接工具能力
. 全區(qū)域覆蓋
. 批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
. 支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D
. 適用于高形貌(粗糙)表面
. 分辨率取決于過程和模板
. 優(yōu)化工藝鏈
. 具有軟工作模板制造能力,這是大批量生產(chǎn)的基石,不需要額外的壓印模板制造設(shè)備
. 該設(shè)備可以配置微型環(huán)境,以確保最低的缺陷率和最高質(zhì)量的原版復制。
2、技術(shù)參數(shù)
. 最多300毫米的基材
. 晶圓直徑(基板尺寸)100至200毫米(7200壓印模塊)/ 200至300毫米(7300壓印模塊)
. 解析度≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
. 支持流程:SmartNIL®
. 最大產(chǎn)量高達40wafe/小時
. 對準:≤±3微米
. 自動分離:支持
. 前處理:提供所有預處理模塊
. 迷你環(huán)境和氣候控制:可選
. 工作印章制作:支持的
公司簡介:
EVG公司成立于1980年,公司總部和制造廠位于奧地利,在美國、日本和臺灣設(shè)有分公司,并在其他各地設(shè)有銷售代理及售后服務(wù)部,產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。
EVG公司是一家致力于半導體制造設(shè)備的全球供應商,其豐富的產(chǎn)品系列包括:涂膠和噴膠/顯影機/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對準系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機、基片檢測系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。
目前已有數(shù)千臺設(shè)備安裝在世界各地,被廣泛地應用于MEMS微機電系統(tǒng)/微流體器件,SOI基片制造,3D封裝,納米壓印,化合物半導體器件和功率器件等領(lǐng)域。
EVG是世界上為數(shù)不多的可以商業(yè)化納米壓印設(shè)備的著名公司,可為客戶提供完整的納米壓印方案,包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其專利的極其優(yōu)異的對準技術(shù)和世界領(lǐng)先的熱壓技術(shù)為納米壓印的成功實施打下了堅實的基礎(chǔ)。
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