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NEE-4000電子束蒸鍍系統(tǒng)
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NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng) NEE-4000
NANO-MASTER那諾-馬斯特NEE-4000型E-Beam電子束蒸發(fā)系統(tǒng),有兩種不同的構(gòu)造可供選擇。
第一種為垂直緊連的雙腔架構(gòu)，其中主腔體是14英寸的立方體，其內(nèi)有樣品臺，底部二級腔體則用于安置電子束源。這種構(gòu)造可在兩個腔體之間裝有門閥互鎖，可實現(xiàn)主腔體放取片過程保持電子束源和坩堝的真空狀態(tài)。若需實現(xiàn)自動上下片，通過在主腔體左邊增加帶真空閥門的進樣室即可。這樣，主腔體可以持續(xù)保持10-7托范圍的低壓，裝片后幾分鐘內(nèi)就可進行蒸鍍。
NANO-MASTER那諾-馬斯特的E-Beam電子束蒸鍍系統(tǒng)的第二種構(gòu)造為一個獨立大腔體，基板上安裝電子束蒸鍍腔、磁控槍和熱蒸鍍。該構(gòu)造可涂覆多種尺寸的晶圓，過程中使用行星運動的樣品臺。
NANO-MASTER公司的E-Beam電子束蒸鍍系統(tǒng)可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升級支持自動上下片，以及手動或自動翻轉(zhuǎn)樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的E-Beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射和熱蒸鍍系統(tǒng)等集成，另外也可以跟NANO-MASTER那諾-馬斯特的其它怎空系統(tǒng)實現(xiàn)雙系統(tǒng)的組合。
特點：
** 電拋光14"立方體或21"x21"x22"不銹鋼優(yōu)化蒸鍍腔體
** 680 l/sec 渦輪分子泵，串接機械泵或干泵
** 4x 15CC pocket電子槍
** 電子束源和基片遮板
** 6KW開關(guān)電源，杰出的消弧性能
** 自動Pocket索引以及可編程的掃描控制器
** 膜厚監(jiān)測，可設(shè)置目標(biāo)膜厚作為工藝終點條件
** 旋轉(zhuǎn)樣品臺，提供高均勻性
** 帶觀察視窗的腔門，便于放片/取片
** PC全自動控制，具有高度的可重復(fù)性
** Labview軟件的計算機全自動工藝控制控
** 多級密碼保護的授權(quán)訪問設(shè)計
** EMO保護以及完全的安全聯(lián)鎖
選配：
** 基片加熱(最高可到800℃)或冷卻
** 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積
** 行星式基片夾具
** 基片RF/DC偏壓
** 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍
** 附加物理沉積源（熱蒸鍍，磁控濺射）
** 用于反應(yīng)蒸鍍的MFC
** 不同的泵組選擇，可升級分子泵為冷泵，前級泵為干泵
** 進樣室和自動上下片/可支持單片和25片片匣
應(yīng)用：
** 剝離
** 光學(xué)涂覆
** 銅銦鎵硒(CIGS)
** 約瑟夫森連接
** OLED
** 其它的金屬和介質(zhì)材料的電子束蒸鍍
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