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美Nano-master 大基片清洗機 Large Substrate Cleaning :LSC-4000

NANO-MASTER大基片清洗機（LSC）是一款獨立式清洗機，使用計算機控制，最大可支持外徑21”的基片。
通過前方面板上的觸摸屏和LabView用戶界面，與SWC系統(tǒng)相比可以提供更強大的控制，并允許用戶控制訪問等級，比如操作者、工藝工程師和維護工程師。跟SWC一樣，LSC集成了同樣的專利技術(shù)的兆聲技術(shù)和化學試劑分布。
 
LabView控制和更大工藝腔體的組合支持額外的選配項，諸如臭氧化去離子水、高壓去離子水、帶保護膜的分劃板清洗、以及白骨化清洗。 單晶圓和Cassette-to-Cassette自動上下片可選。其中可以通過定制托盤一次放入多片小片實現(xiàn)批處理。

特點：

** 最大可支持21”外徑，15”x15”方片和450mm的晶圓
** 無損兆聲清洗
** 不同轉(zhuǎn)速的PVA刷子
** 帶回吸閥的化學試劑分布
** 雙排放口用于酸和試劑的分開排放
** 全自動計算機控制，菜單驅(qū)動
** 基于LabVIEW的觸摸屏友好用戶界面
** 手動上下片
** 安全聯(lián)鎖和報警
** 32”x28”的占地面積

選配：

** 帶保護膜的分劃板清洗
** 雙面刷子和兆聲清洗
** 化學試劑傳輸模塊
** 化學試劑瓶的泄漏檢測傳感器
** 白骨化清洗
** 臭氧化去離子水(20ppm O3)
** 高壓去離子水
** 加熱的去離子水
** 氮離子發(fā)生器
** 帶去離子水電阻率監(jiān)控的CO2注入
** FM4910防火災材料
** 機械手上下片，帶SMIF傳送盒

應(yīng)用：

** 硅晶圓及藍寶石晶圓清洗
** 晶圓框架上的切割芯片清洗
** 顯示面板清洗
** ITO涂覆的顯示屏
** 帶圖案或不帶圖案的掩模板清洗
** 掩模板光板清洗
** 接觸掩模版清洗