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RTP快速退火爐
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美NANO-MASTER RTP快速退火爐
NRT-3500 緊湊型獨立式全自動RTP系統(tǒng)
NRT-4000 獨立式全自動RTP系統(tǒng)
NRT-4000 獨立式大批量RTP系統(tǒng)
NANO-MASTER的NRT-4000型獨立式RTP快速褪火爐,可支持硅片、GaN、GaAs等晶圓的快速煺火,具有精確的溫度/時間控制能力。該RTP系統(tǒng)可支持單片自動Load Lock,或者帶25片Cassette的單片工藝,可兼容處理4”和6”晶圓片。也可以有一次處理6-7片6”晶圓的批處理版本。占地面積僅為26”x44”,不銹鋼立柜。
用戶可選擇溫度的升降時間,溫度和脈沖數,并且這些工藝參數實時顯示在觸摸監(jiān)控屏幕中。全自動工藝控制和完整的安全聯(lián)鎖功能。系統(tǒng)支持不限數量的工藝菜單,每套工藝菜單可根據客戶需要支持1到100個工藝工序(步驟)。
該RTP系統(tǒng)可選擇不同的最高溫度(最高可可加熱至1100℃或者1400℃),溫度脈沖可高達200C/s,SiC涂覆的石墨烯樣品臺,帶石英支架,三頂針升降樣品臺(Auto L/UL)。提供高均勻性的溫度控制,整個晶圓全局的溫度均勻性優(yōu)于+/-1%,控溫精度優(yōu)于+/-2℃。
特點:
** 無氣相顆粒,兼容百級超凈間
** 12”x12”x8”不銹鋼腔,氣動升降頂蓋
** 最高溫度可達1100℃
** 最高脈沖溫度可達200℃/Sec
** 碳化硅涂覆的石墨烯基座
** 36KW的SCR控制的IGBT開關固態(tài)電源
** ISP-500干泵,極限真空可達50mTorr
** 8個紅外燈,金反射鏡
** 不均勻性±1%,溫控精度±2℃
** 200sccm質量流量計
** 25片Cassette自動Load Lock
** LabView軟件,觸摸屏監(jiān)控屏幕
** 四級密碼授權訪問保護
** EMO和完全的安全聯(lián)鎖功能
** 占地面積僅26”×44”,不銹鋼柜體
選配:
** 大腔體配置,支持更大尺寸或批處理
** 單晶圓工藝的Auto Load Lock
** 單晶圓工藝25片Cassette的自動上下片
** 最高加熱溫度升級到1400℃
** 雙光學高溫計,控制400-1400℃,控制150-1100℃
** 渦輪分子泵,5×10-7Torr的極限真空。
** 額外MFC用于如O2、H2等氣體,實現(xiàn)不同工藝應用
應用:
** 擴散
** 接觸式退火
** 復合半導體退火
** 氧化、碳化、晶化,以及致密化
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