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德國Raith Velion 電子束光刻機(jī)

FIB?SEM納米圖案化突破極限

VELION – Multi-ion species FIB on a true lithography platform Main Applications 

VELION®專注于FIB技術(shù)的完美應(yīng)用。這種獨(dú)特的、多離子種類的FIB納米加工系統(tǒng)結(jié)合了垂直安裝的FIB柱和 unparalleled 激光干涉平臺，提供了許多卓越的優(yōu)勢。

VELION的可配置多離子種類FIB技術(shù)能夠根據(jù)您的應(yīng)用挑戰(zhàn)定制各種納米結(jié)構(gòu)。只需從通用離子源中選擇和切換各種離子種類。這種方法為無限的過程路徑鋪平了道路。尖端的FIB柱提供完美的束流特性，以及市場上前所未有的最長的燈絲壽命。

該系統(tǒng)基于其光刻架構(gòu)，便于在大型區(qū)域上進(jìn)行穩(wěn)定直接圖案化最小特征。

前所未有的超大面積FIB圖案化和無限完美的寫入場拼接現(xiàn)在首次變得可行。由于 VELION 利用全面的自動化進(jìn)行可靠的不間斷納米加工，數(shù)天無需人工干預(yù)，該儀器是您實(shí)驗(yàn)室中機(jī)器驅(qū)動納米加工的理想伴侶。