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eLINE Plus®是廣泛用于尋求將高效且無(wú)妥協(xié)的電子束光刻系統(tǒng)與開放平臺(tái)相結(jié)合進(jìn)行進(jìn)一步納米加工工藝和技術(shù)的大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)的最優(yōu)系統(tǒng)。

為了應(yīng)對(duì)最廣泛的應(yīng)用范圍，現(xiàn)代納米技術(shù)研究需要在經(jīng)典和純電子束光刻(EBL)之外采用多種技術(shù)——最好是在原位。

除了完全集成的納米操作器和用于電子束誘導(dǎo)沉積和蝕刻的機(jī)制外，還有一系列進(jìn)一步的可選功能，這使得eLINE Plus成為目前最通用和獨(dú)特的納米工程電子束光刻系統(tǒng)。