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高真空熱蒸發(fā)鍍膜機HV Thermal
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Syskey 高真空熱蒸發(fā)鍍膜機HV Thermal
高真空熱蒸發(fā)系統(tǒng)可提供的真空環(huán)境或
Torr 用于常見薄膜沉積,包括金屬、有機物、鈣鈦礦和化合物。全自動系統(tǒng)可滿足各種應用要求,包括OLED、OPV、OPD等。配置和優(yōu)勢:• 靈活的基板尺寸可達 370 x 470 毫米
配置和優(yōu)勢:
• 基板支架水冷或油冷
• 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%
• 船和電池源(數(shù)量最多 12 個)• 可以共蒸發(fā)和摻雜
• 用選定的目標材料沉積多層薄膜
- 可與手套箱集成
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