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超高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)UHV Thermal
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Syskey 超高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)UHV Thermal
特高壓環(huán)境的特點是壓力低于 Torr,這非常對科學(xué)研究很重要,因為實驗通常要求表面保持無污染狀態(tài)。我們在制造特高壓方面很成熟適用于各種應(yīng)用的熱蒸發(fā)系統(tǒng)。
配置和優(yōu)點:
• 靈活的基板尺寸可達(dá) 8 英寸
• 基板支架加熱至 800 °C
• 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%
• 船和電池源(數(shù)量最多 6 個)• 可以共蒸發(fā)和摻雜。• 用選定的目標(biāo)材料沉積多層薄膜
• 可與其他沉積系統(tǒng)集成
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