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Syskey 高真空電子束鍍膜系統(tǒng) HV E-beam

高真空電子束蒸發(fā)系統(tǒng)可提供 Torr的真空環(huán)境用于常見的薄膜沉積，包括金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物。全自動(dòng)系統(tǒng)可以滿足各種應(yīng)用需求，包括MEMS、IC、射頻濾波器、功率器件、光伏、光學(xué)等。

配置和優(yōu)勢(shì)：

• 靈活的基板尺寸可達(dá) 12 英寸
• 基板支架加熱至 800 °C 或水/油/LN2 冷卻
• 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%
• 4/6/8 個(gè)口袋電子束源（每個(gè)口袋最多 40 cc）• 6 kW 電源可支持大部分材料蒸發(fā)
• 用選定的目標(biāo)材料沉積多層薄膜
• 可與其他沉積技術(shù)或沉積系統(tǒng)集成