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Syskey 感應(yīng)耦合-反應(yīng)離子刻蝕機(jī) ICP-RIE

用于氧化物和氮化物蝕刻的 ICP-RIE 系統(tǒng)。氣體管線可實(shí)現(xiàn)金屬蝕刻。全自動(dòng)作，支持一鍵工序。

配置和優(yōu)勢(shì)：

• 靈活的基板尺寸可達(dá) 12 英寸
• 基板支架背氦冷卻
• 優(yōu)異的薄膜均勻性，低于 ±5%
• 6 條反應(yīng)性氣體管路，適用于金屬和 III-V 族化合物蝕刻
• 使用選定的靶材蝕刻多層薄膜
• 用于自動(dòng)樣品轉(zhuǎn)移的負(fù)載鎖定
• 終點(diǎn)檢測(cè)器是可選的