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PICOSUN  高級原子沉積機 P-300B Advanced ALD

技術(shù)參數(shù)
  。基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）
  。200mm晶圓25+2片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）

工藝溫度 ：50 - 500 °C
 

基片傳送選件：。 氣動升降（手動加載）
         。半自動裝載，用線性裝載器實現(xiàn)
         。52片晶圓盒式全自動裝載，用真空批量Load lock實現(xiàn)
 

前驅(qū)體：  。液態(tài)，固態(tài)，氣態(tài)，臭氧源
       。前驅(qū)源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務(wù)
       。4根獨立源管線，最多加載6個前驅(qū)體源
 

重量 ：400 + 300 kg
 

尺寸： (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
 

選件 ：PICOFLOW™ 擴散增強，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設(shè)計，與工廠軟件連接服務(wù)。
 

驗收標(biāo)準(zhǔn) ：標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝