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PICOSUN高級型原子層沉積機 P-300 Advanced ALD 

襯底尺寸和類型： 

  。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（雙面/背對背）
  。高達300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（雙面/背對背）
  。大批量的3D產品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫(yī)療植入部件，機械部件等）
  。粉末與顆粒
  。Roll-to-roll, 襯底最大寬 300 mm
  。多孔，通孔，與高深寬比（HAR）樣品
 

工藝溫度： 50 - 500 °C
 

基片傳送選件： 

 。氣動升降（手動裝載）
 。半自動裝載，用線性裝載器實現(xiàn)
 。全自動轉載，用工業(yè)機器人實現(xiàn)
 

前驅體 ：

 。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
 。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
 。4根獨立源管線，最多加載6個前驅體源
 

重量： 400 + 300 kg
 

尺寸 ：(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
 

選件： PICOFLOW™ 擴散增強器，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設計，與工廠軟件連接服務。
 

驗收標準 ：標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝