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SWC 單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)
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美NANO-MASTER SWC單晶圓清洗系統(tǒng)
SWC-3000 臺式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)
SWC-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)
SWC-5000 帶25片Cassette 機械手自動清洗
NANO-MASTER單晶圓清洗機(SWC)聚焦于提供最大可能性的清洗能力,同時維持可承擔的擁有成本。標準系統(tǒng)配套有各種清洗能力,化學試劑清洗、刷子清洗、高轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)甩干帶紅外燈烘干和N2吹掃。 專利技術(shù)的兆聲噴嘴運動確保兆聲能量的均勻傳送;因此,在晶圓表面的任何點,被傳送的能量可以保持在損傷閾值以內(nèi)。
特點:
** 12" 外徑圓片 7" x 7"方片
** 臺式系統(tǒng)/獨立式系統(tǒng)(SWC-4000)
** 文丘里動力真空
** 無損兆聲
** 獨立的化學試劑分布
** 帶熱氮的旋轉(zhuǎn)甩干
** 微處理器控制,觸摸屏編程和調(diào)用程序
** 化學試劑分布單元/4個3.8L的HDPE容器(SWC-4000)
** 雙排放口分別用于酸和溶劑(SWC-4000)
** 回吸閥防止試劑滴漏(SWC-4000)
** 安全聯(lián)鎖
** 占地面積19”x26”
選配:
** PVA刷子清洗(100RPM)
** CMP后刷子清洗(轉(zhuǎn)速最大到400RPM)
** 氮離子發(fā)生器
** 去離子水電阻率監(jiān)控的CO2注入
** FM4910防火災材料
** 背面去離子水清洗和干燥(SWC-4000)
** 嵌入式加熱器用于去離子水或化學試劑(SWC-4000)
** 用于化學試劑盒DIW泄露檢測的傳感器(SWC-4000)
應用:
** 有圖案或無圖案掩模板及晶圓
** Ge,GaAs和InP晶圓清洗
** CMP后晶圓清洗
** 晶圓框架上的切割芯片清洗
** 等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
** 掩模版白板或接觸掩模板清洗
** X光和遠紫外掩模板清洗
** 光學鏡頭清洗
** ITO涂覆的顯示面板清洗
** 兆聲輔助的剝離工藝
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