Copyright © 2019 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司 All Rights Reserved 粵ICP備12009628號 | 友情鏈接(舊版網(wǎng)站)
![]() ![]() ![]() |
URE-2000/34AL型光刻機(jī)
咨詢購買
|
URE-2000/34AL型光刻機(jī)
技術(shù)參數(shù)
UV光源:進(jìn)口LED模塊
曝光中心波長:365nm
光源平行性:≤2º
曝光分辨率: 0.8μm-1μm
最大曝光能量密度:>35mW/cm²可調(diào)
照度不均勻性:≤2.5%(直徑150mm范圍)
曝光面積:160mm*160mm
光源壽命:2萬小時
曝光設(shè)定:定時
曝光頭工作模式:曝光位對準(zhǔn)位自動切換(前后移動)
套準(zhǔn)精度:±0.8-1μm
可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式,
間隙設(shè)定方式:數(shù)字設(shè)定曝光間隙,可自動分離和消除間隙
樣片、掩模版相對移動范圍:X: ±5mm, Y: ±5mm, θ=±6º
掩模版找平方式:球氣浮自動找平
可支持掩模版尺寸: 3″×3″、4″×4″、5″×5″、7″×7″各一件
標(biāo)配承片臺 : 2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度:0.1-6mm,其他尺寸可定制
對準(zhǔn)系統(tǒng):光學(xué)+CCD,顯微倍數(shù):放大倍率:150倍-720倍可調(diào)
雙物鏡可調(diào)距離范圍:30mm-120mm
顯微掃描范圍:Y:±40mm(數(shù)字設(shè)定)
配置
設(shè)備主要由均勻照明曝光系統(tǒng)、對準(zhǔn)工件臺系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、氣動控制系統(tǒng)及輔助配套設(shè)備構(gòu)成。
Copyright © 2019 深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司 All Rights Reserved 粵ICP備12009628號 | 友情鏈接(舊版網(wǎng)站)