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德國Raith ELPHY 最簡單且最具經(jīng)濟(jì)性的專業(yè)納米光刻和納米加工途徑

Raith 提供 ELPHY®產(chǎn)品系列，這是一套納米光刻升級(jí)套件，能夠使掃描電子顯微鏡 (SEMs)、聚焦離子束顯微鏡 (FIBs)、氦離子顯微鏡 (HIMs) 或組合系統(tǒng) (FIB?SEMs) 實(shí)現(xiàn)專業(yè)的納米光刻應(yīng)用。

這一系列解決方案從 ELPHY Quantum 開始，它是市場(chǎng)上最廣泛使用的 Raith SEM/FIB 附件。整個(gè)工藝范圍（CAD 布局和處理、曝光參數(shù)控制、每臺(tái)顯微鏡的遠(yuǎn)程控制等）都集成在一個(gè)用戶界面——RaithNanoSuite 中。專門開發(fā)的硬件在基于 Windows 的 PC 上提供。

ELPHY Plus 是為更苛刻的應(yīng)用或具有更高電流密度的場(chǎng)發(fā)射 SEM 開發(fā)的，并與激光干涉儀控制的樣品臺(tái)連接。精心設(shè)計(jì)和快速的模式發(fā)生器硬件提供了所需的性能。

Raith 通過 ELPHY MultiBeam 在納米光刻解決方案（附件）市場(chǎng)上設(shè)定了新的標(biāo)準(zhǔn)。ELPHY MultiBeam 結(jié)合了三維 FIB 和其他3D 納米加工技術(shù)的最新技術(shù)，以及最佳的 EBL 性能，并幫助充分利用任何 FIB?SEM 或 FIB 系統(tǒng)的納米加工潛力。