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EVG720紫外納米壓印機(jī)

一、設(shè)備原理：

EVG720紫外納米壓印用于從印章到襯底的紫外圖形轉(zhuǎn)移。EVG720自動(dòng)納米壓印系統(tǒng)允許襯底和印章的尺寸從很小的芯片到150mm直徑的圓片范圍。用于納米技術(shù)應(yīng)用的配置包括印章機(jī)械釋放、程序控制高或低的接觸壓力。EVG獨(dú)有的吸盤(pán)設(shè)計(jì)支持軟印章和硬印章壓印，可以保證大面積納米壓印的均勻壓力，從而保證獲得很高的良率。

二、應(yīng)用范圍

納米壓印技術(shù)主要應(yīng)用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS納米壓印工藝，LED納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實(shí)驗(yàn)室；抗反射層； 納米壓印光柵； 蓮花效應(yīng)；光子帶隙；光學(xué)及通訊：光晶體，激光器件；生物技術(shù)解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細(xì)胞生長(zhǎng)。

三、主要特點(diǎn)及技術(shù)參數(shù)：

1、主要特點(diǎn)：

。 最大產(chǎn)量高達(dá)40wafers每小時(shí)；

。 紫外光曝光；

。配備專用的紫外納米壓印工具；

。 正面對(duì)準(zhǔn)或者正反雙面對(duì)準(zhǔn)；

。 適用襯底：Si，玻璃，化合物半導(dǎo)體；

。 硬紫外納米壓印，軟紫外納米壓印、微接觸壓印。

2、技術(shù)參數(shù)

• 晶圓尺寸：最大150mm
• 大面積壓?。鹤畲?50mm
• 產(chǎn)能：最大可到40wafers/小時(shí)
• 印章制備：支持工作模具制備，支持自動(dòng)楔形脫模
• 曝光：曝光光源：高功率窄帶曝光；波長(zhǎng)：300-500nm, 光強(qiáng)：~ 400 mW/cm2，光強(qiáng)均勻性：20%（6寸）
• 對(duì)準(zhǔn)模塊：機(jī)械對(duì)位精度±200um，光學(xué)對(duì)位精度±3um
• 壓印微結(jié)構(gòu)尺寸范圍：40nm-2um；
• 壓印結(jié)構(gòu)分辨率：≤40納米
• 壓印殘留層厚度：≤20納米
• 滾壓印速度：2mm/s-16mm/s, 可以調(diào)節(jié)
• 圖形保型度：≥90%
• 支持傾斜光柵壓印，傾斜度45-90°
• 上料系統(tǒng)：3料盒臺(tái)，現(xiàn)場(chǎng)可升級(jí)

u SECS/GEM II: 可選。

公司簡(jiǎn)介：

EVG公司成立于1980年，公司總部和制造廠位于奧地利，在美國(guó)、日本和臺(tái)灣設(shè)有分公司，并在其他各地設(shè)有銷售代理及售后服務(wù)部，產(chǎn)品和服務(wù)遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半導(dǎo)體制造設(shè)備的全球供應(yīng)商，其豐富的產(chǎn)品系列包括：涂膠和噴膠/顯影機(jī)/熱板/冷板、掩模版光刻/鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、基片熱壓鍵合/低溫等離子鍵合系統(tǒng)、基片清洗機(jī)、基片檢測(cè)系統(tǒng)、SOI 基片鍵合系統(tǒng)、基片臨時(shí)鍵合/分離系統(tǒng)、納米壓印系統(tǒng)。

目前已有數(shù)千臺(tái)設(shè)備安裝在世界各地，被廣泛地應(yīng)用于MEMS微機(jī)電系統(tǒng)/微流體器件，SOI基片制造，3D封裝，納米壓印，化合物半導(dǎo)體器件和功率器件等領(lǐng)域。

EVG是世界上為數(shù)不多的可以商業(yè)化納米壓印設(shè)備的著名公司，可為客戶提供完整的納米壓印方案，包括熱壓印、紫外壓印、微接觸印刷。EVG公司以其專利的極其優(yōu)異的對(duì)準(zhǔn)技術(shù)和世界領(lǐng)先的熱壓技術(shù)為納米壓印的成功實(shí)施打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。